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SEM掃描電鏡是利用細(xì)聚焦電子束在樣品表面逐點(diǎn)掃描，與樣品相互作用產(chǎn)生各種物理信號(hào)，這些信號(hào)經(jīng)檢測(cè)器接收、放大并轉(zhuǎn)換成調(diào)制信號(hào)，在熒光屏上顯示反映樣品表面各種特征的圖像。掃描電鏡具有景深大、圖像立體感強(qiáng)、放大倍數(shù)范圍大、連續(xù)可調(diào)、分辨率高、樣品室空間大且樣品制備簡(jiǎn)單等特點(diǎn)，是進(jìn)行樣品表面研究的有效分析工具。通過(guò)本實(shí)驗(yàn)學(xué)習(xí)，了解掃描電鏡基本機(jī)構(gòu)，掌握掃描電鏡的基本使用方法和使用過(guò)程中的注意事項(xiàng)。SEM掃描電鏡圖像襯度觀察：1．樣品制備掃描電鏡的優(yōu)點(diǎn)之一是樣品制備簡(jiǎn)單，對(duì)于新鮮的...

臺(tái)式掃描電鏡體積小、重量輕、壽命長(zhǎng)、功率損耗小、機(jī)械性能好，因而適用的范圍廣。然而半導(dǎo)體器件的性能和穩(wěn)定性在很大程度上受它表面的微觀狀態(tài)的影響。一般在半導(dǎo)體器件試制和生產(chǎn)過(guò)程巾包括了切割、研磨、拋光以及各種化學(xué)試劑處理等一系列工作，會(huì)造成表面的結(jié)構(gòu)發(fā)生驚人的變化，所以幾乎每一個(gè)步驟都需要對(duì)擴(kuò)散進(jìn)行檢測(cè)，深度進(jìn)行測(cè)繭或者直接看到擴(kuò)散區(qū)的實(shí)際分布情況，而生產(chǎn)大型集成電路就更是如此。目前，臺(tái)式掃電鏡在半導(dǎo)體中的應(yīng)用已經(jīng)深入到許多方面。臺(tái)式掃描電鏡利用柬感應(yīng)電流（EBIC）像和吸收電...

超高壓XRD分析手段有2種，分單晶X射線衍射法，多晶X射線衍射法。對(duì)應(yīng)地，所用的XRD設(shè)備，也分為單晶衍射儀和多晶衍射儀。物相，簡(jiǎn)稱為相，它是有某種晶體結(jié)構(gòu)并能用化學(xué)式表征其化學(xué)成分（或有一定的成分范圍）的固體物質(zhì)?；瘜W(xué)成分不同的是不同的物相，化學(xué)成分相同而內(nèi)部結(jié)構(gòu)不同的，也是不同的物相。例如，同樣是鐵，它能以晶體結(jié)構(gòu)為體心立方結(jié)構(gòu)的Fe、也能以面心立方結(jié)構(gòu)的Fe、還能以體心立方結(jié)構(gòu)的高溫Fe，這3種物相形式存在。X射線的性質(zhì)：1）物理作用，使某些物質(zhì)發(fā)出熒光一可見(jiàn)光，用于熒...

當(dāng)一束單色X射線照射到晶體上時(shí)，晶體中原子周圍的電子受X射線周期變化的電場(chǎng)作用而振動(dòng)，從而使每個(gè)電子都變?yōu)榘l(fā)射球面電磁波的次生波源。所發(fā)射球面波的頻率與入射的X射線相一致?；诰w結(jié)構(gòu)的周期性，晶體中各個(gè)原子（原子上的電子）的散射波可相互干涉而疊加，稱之為相干散射或衍射。X射線在晶體中的衍射現(xiàn)象，實(shí)質(zhì)上是大量原子散射波相互干涉的結(jié)果。每種晶體所產(chǎn)生的衍射花樣都反映出晶體內(nèi)部的原子分布規(guī)律。X射線衍射儀XRD主要部件包括4部分：（1）高穩(wěn)定度X射線源提供測(cè)量所需的X射線，改變X...

日本電子電鏡可對(duì)各種材料的物質(zhì)表面形貌進(jìn)行觀察，特別適用于不便進(jìn)行破壞性處理的塊狀樣品；配合能譜儀可以對(duì)各種元素進(jìn)行定性、定量分析；配合電子背散射衍射系統(tǒng)可進(jìn)行織構(gòu)、晶體取向等分析。廣泛應(yīng)用于金屬材料、無(wú)機(jī)材料、高分子材料、催化劑、潤(rùn)滑材料、地質(zhì)礦物、金屬、沙漠、生物醫(yī)學(xué)等方面。電子顯微鏡是以電子束作光源、電磁場(chǎng)作透鏡、具有高分辨率和放大倍率的顯微鏡。電鏡通過(guò)收集、整理和分析電子與樣品相互作用產(chǎn)生的各種信息而獲得物體的形貌和結(jié)構(gòu)等。電鏡的類型也是利用電子信號(hào)的不同和成像的不同...

由于半導(dǎo)體器件體積小、重量輕、壽命長(zhǎng)、功率損耗小、機(jī)械性能好.因而適用的范閘極廣。然而半導(dǎo)體器件的性能和穩(wěn)定性在很大程度上受它表面的微觀狀態(tài)的影響。一般在半導(dǎo)體器件試制和生產(chǎn)過(guò)程巾包括了切割、研磨、拋光以及各種化學(xué)試劑處理等一系列工廳，~正是在這些過(guò)程巾，會(huì)造成表面的結(jié)構(gòu)發(fā)生驚人的變化，所以幾乎每一個(gè)步驟都需要對(duì)擴(kuò)散進(jìn)行檢測(cè).深度進(jìn)行測(cè)繭或者直接看到擴(kuò)散區(qū)的實(shí)際分布情況，而生產(chǎn)大型集成電路就更是如此。目前.臺(tái)式掃電鏡在半導(dǎo)體中的應(yīng)用已經(jīng)深入到許多方面。臺(tái)式電鏡SEM質(zhì)量監(jiān)控與...

高溫環(huán)境XRD主要應(yīng)用于樣品的物相定性或定量分析，晶體結(jié)構(gòu)分析，材料的織構(gòu)分析，宏觀應(yīng)力或微觀應(yīng)力的測(cè)定，晶粒大小測(cè)定，結(jié)晶度測(cè)定等等，因此，在材料科學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、化工、冶金、礦物、藥物、塑料、建材、陶瓷……以至考古、刑偵、商檢等眾多學(xué)科、相關(guān)的工業(yè)、行業(yè)中都有重要的應(yīng)用。是理工科院校和涉及材料研究、生產(chǎn)的研究部門、廠礦的重要的大型分析設(shè)備。高溫環(huán)境XRD基本構(gòu)成包括：高穩(wěn)定度X射線發(fā)生器，精密測(cè)角臺(tái)，X射線強(qiáng)度測(cè)量系統(tǒng)，安裝有專用軟件的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)等四大部分。按其X射線發(fā)...